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http://hdl.handle.net/10119/12159
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| タイトル: | Preparation of Ruthenium Metal and Ruthenium Oxide Thin Films by a Low-Temperature Solution Process |
| 著者: | Murakami, Yoshitaka
Tue, Phan Trong
Tsukada, Hirokazu
Li, Jinwang
Shimoda, Tatsuya |
| キーワード: | Ru/RuO2
Thin film
Solution process
Low temperature
Flexible |
| 発行日: | Dec-2013 |
| 出版者: | ITE and SID |
| 抄録: | Highly conductive ruthenium metal thin films and ruthenium oxide ones were prepared by a solution process at low temperature (e.g., 6.9 × 10^<-5> Ωcm at 300°C for Ru^0). Their structure and electric properties depend on the annealing conditions. The process allowed us to fabricate ruthenium electrodes on flexible substrates. |
| 言語: | eng |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/12159 |
| 出現コレクション: | z8-11-1. 会議発表論文・発表資料 (Conference Papers)
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