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Doctor of Philosophy（Materials Science） >
R01) (Jun.2019 - Mar.2020 >
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http://hdl.handle.net/10119/16668
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| Title: | 層状Ⅲ族モノカルコゲナイド薄膜のファンデルワールスヘテロ界面微細構造に関する研究 |
| Authors: | 米澤, 隆宏 |
| Authors(alternative): | よねざわ, たかひろ |
| Keywords: | GaSe
InSe
VDW epitaxy
STEM
Moire pattern
Layered materials
MBE
SPM |
| Issue Date: | Mar-2020 |
| Description: | Supervisor: 高村 由起子
先端科学技術研究科
博士 |
| Title(English): | Atomistic Study on van der Waals Heterointerface Structures of Layered Group--Ⅲ Monochalcogenide Thin Films |
| Authors(English): | Yonezawa, Takahiro |
| Language: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/16668 |
| Academic Degrees and number: | 甲第1192号 |
| Degree-granting date: | 2020-03-25 |
| Degree name: | 博士(マテリアルサイエンス) |
| Degree-granting institutions: | 北陸先端科学技術大学院大学 |
| Appears in Collections: | D-MS. 2019年度(R01) (Jun.2019 - Mar.2020)
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Description |
Size | Format |
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| abstract.pdf | 要旨 | 155Kb | Adobe PDF | View/Open | | paper.pdf | 本文 | 11694Kb | Adobe PDF | View/Open | | summary.pdf | 内容の要旨及び論文審査の結果の要旨 | 381Kb | Adobe PDF | View/Open |
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