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D-MS. 1999年度(H11) >
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http://hdl.handle.net/10119/2080
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| タイトル: | 触媒CVD法によるシリコン膜の低温結晶化に関する研究 |
| 著者: | 部家, 彰 |
| 著者（別表記）: | へや, あきら |
| キーワード: | 触媒CVD法、低温、結晶化、結晶構造、移動度
catalytic CVD, low temperature, crystallization, c |
| 発行日: | Mar-2000 |
| 記述: |
Supervisor:松村 英樹
材料科学研究科
博士 |
| タイトル（英語）: | Study on low-temperature crystallization of Si film in catalytic CVD method |
| 著者（英語）: | Heya, Akira |
| 言語: | eng |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2080 |
| 出現コレクション: | D-MS. 1999年度(H11) (Jun.1999 - Mar.2000)
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記述 |
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