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D-MS. 2000年度(H12) >

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タイトル: InGaAsベース狭バンドギャップヘテロ接合の分子線エピタキシ成長
著者: 牛頭, 信一郎
著者(別表記): ごず, しんいちろう
キーワード: 分子線エピタキシ, 歪み緩和層, 逆ステップ歪み緩和層, 変調ドープヘテロ接合, 共鳴トンネルダイオード, ゼロ磁場スピン分離
Molecular Beam Epitaxy, strain relaxation layer, i
発行日: Mar-2001
記述: 
山田省二
材料科学研究科
博士
タイトル(英語): Molecular beam epitaxy growth of InGaAs based narrow band gap heterojunctions
著者(英語): Gozu, Shin-ichiro
URI: http://hdl.handle.net/10119/2106
出現コレクション:D-MS. 2000年度(H12) (Jun.2000 - Mar.2001)

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