JAIST Repository >
i. 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) >
i20. 学位論文 >
D-MS. 博士(マテリアルサイエンス)・博士(材料科学) >
D-MS. 2002年度(H14) >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/10119/2135
|
タイトル: | Cat-CVD法のシリコン集積回路製作への応用に関する基礎研究 |
著者: | 森本, 類 |
著者(別表記): | もりもと, るい |
キーワード: | ULSI, CVD, 熱履歴, Cat-CVD, RTA, プリカーサ膜, poly-Si, SiNx, CMOS ULSI, CVD, thermal budget, Cat-CVD, RTA, precusor |
発行日: | Mar-2003 |
記述: | Supervisor:松村 英樹 材料科学研究科 博士 |
タイトル(英語): | Fundamental Study of Cat-CVD method for the Application of Ultralarge Integrated Circuits Fabrication |
著者(英語): | Morimoto, Rui |
言語: | jpn |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/2135 |
出現コレクション: | D-MS. 2002年度(H14) (Jun.2002 - Mar.2003)
|
このアイテムのファイル:
ファイル |
記述 |
サイズ | 形式 |
1924abstract.pdf | | 97Kb | Adobe PDF | 見る/開く |
|
当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。
|