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M-MS. 2004年度(H16) >
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https://hdl.handle.net/10119/3200
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| タイトル: | 化学気相成長過程においてチャンバー材質の水素原子濃度に与える影響 |
| 著者: | 米山, 浩司 |
| 著者（別表記）: | よねやま, こうじ |
| キーワード: | 触媒CVD, チャンバー材質, SiO2コート,テフロンコート
Cat-CVD, Chamber wall-material, SiO2 coat,Teflon c |
| 発行日: | Mar-2005 |
| 記述: |
Supervisor:梅本 宏信
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | The effect of chamber wall materials on the H-atom densities in chemical vapor deposition processes |
| 著者（英語）: | Yoneyama, Koji |
| URI: | https://hdl.handle.net/10119/3200 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2004年度(H16) (Jun.2004 - Mar.2005)
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