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http://hdl.handle.net/10119/16255
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| タイトル: | Replica^2：模写過程の模倣による初学者のための描画練習支援システムの提案 |
| 著者: | 上岡, 勇介
高島, 健太郎
西本, 一志 |
| 発行日: | 2019-02-27 |
| 出版者: | 情報処理学会 |
| 誌名: | インタラクション2019論文集 |
| 巻: | 1B-39 |
| 開始ページ: | 336 |
| 終了ページ: | 340 |
| 抄録: | 絵の練習方法の1つとして模写がある．この練習では，作品の制作プロセスを推察することが重要である．しかし，このような推察力が十分でない絵画制作初級者は，模写から学習効果を十分に得ることが難しい．従来多くの描画学習支援システムが提案されているが，具体的にどのような制作プロセスを踏めば作品を制作することができるかを教示する機能を有する事例は見当たらない．そこで，絵画制作の中・上級者による模写過程を記録し，これを初級者に提供して模倣させる模写による描画練習支援システムReplica^2を提案する．提案手法の基礎的な有用性を検証する被験者実験を実施した結果，本手法によって被験者は中・上級者の模写過程を模倣した際に得られた気づきをもとに，自身の模写過程を改善している可能性があることが示唆された． |
| Rights: | 社団法人 情報処理学会, 上岡勇介, 高島健太郎, 西本一志, インタラクション2019論文集, 1B-39, 2019, 336-340. ここに掲載した著作物の利用に関する注意: 本著作物の著作権は（社）情報処理学会に帰属します。本著作物は著作権者である情報処理学会の許可のもとに掲載するものです。ご利用に当たっては「著作権法」ならびに「情報処理学会倫理綱領」に従うことをお願いいたします。 Notice for the use of this material: The copyright of this material is retained by the Information Processing Society of Japan (IPSJ). This material is published on this web site with the agreement of the author (s) and the IPSJ. Please be complied with Copyright Law of Japan and the Code of Ethics of the IPSJ if any users wish to reproduce, make derivative work, distribute or make available to the public any part or whole thereof. All Rights Reserved, Copyright (C) Information Processing Society of Japan. |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/16255 |
| 資料タイプ: | publisher |
| 出現コレクション: | a11-1. 会議発表論文 (Conference Papers)
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