一覧
登録利用者:
登録者ページ
利用者(E-people)

JAIST Repository >

著者:  "Hayakawa, Taro"

「一覧: 著者」画面に戻る
タイトル順ソート 日付順ソート

2 著者名表示.

発行日タイトル 著者
2011 Extremely Low Recombination Velocity on Crystalline Silicon Surfaces Realized by Low-Temperature Impurity Doping in Cat-CVD TechnologyHayakawa, Taro; Miyamoto, Motoharu; Koyama, Koichi; Ohdaira, Keisuke; Matsumura, Hideki
16-Sep-2014 Cat-doping: Novel method for phosphorus and boron shallow doping in crystalline silicon at 80 °CMatsumura, Hideki; Hayakawa, Taro; Ohta, Tatsunori; Nakashima, Yuki; Miyamoto, Motoharu; Trinh, Cham Thi; Koyama, Koichi; Ohdaira, Keisuke

 
お問い合わせ先 : 北陸先端科学技術大学院大学　研究推進課図書館情報係